基于光的粒子模型,渲染技术有很多术语:正向射线跟踪,反向射线跟踪,射线投射,射线行进,以及其他可能的术语。它们之间有什么区别?

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其他一些:光子贴图,球体跟踪,圆锥体跟踪

我投票结束这个问题,因为它太广泛了。变量太多了,尤其是当可能包含其他变量时,例如艾伦·沃尔夫(Alan Wolfe)在其评论中提到的变量。比较一些技术的更具体/更狭窄的问题,例如实现特定目标非常适合此格式。

我会将这个问题分解为其他几个问题。.对于光线行进,我们已经有了一个很好的答案。

#1 楼

前向光线跟踪意味着光线从光源开始并被跟踪到眼睛(光表面眼睛),这是一种效率很低但准确的方法。反向光线跟踪只是从眼睛开始,然后向光源跟踪。这是两类射线追踪器。


射线投射是使用射线表面相交测试来解决计算机图形学和计算几何学中的各种问题。区别在于射线投射是一种从不递归地跟踪辅助射线的渲染算法,而其他基于射线跟踪的渲染算法可以这样做。


光线行进是光线跟踪器的一种实现,通常用于可视化体积。通常,射线投射使用公式来确定与曲面的交点。在光线行进中,不需要此功能,而是在光线的多个点处评估交点。这些点之间的距离是固定的,或者每次迭代时,到下一个点的距离都是基于到最近曲面的距离。渲染方程式,最后为每个像素生成某种颜色。正向和反向光线跟踪是光线跟踪器的类别,光线投射是进行光线跟踪的简单算法,光线行进是进行光线跟踪的另一种算法。正如评论所言,已经开发了许多其他算法来解决具有不同优点和缺点的问题。

评论


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相关:computergraphics.stackexchange.com/questions/161/…
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– jozxyqk
15年8月13日在7:36