什么是模板缓冲区？

#1 楼

维基百科上的模板缓冲区定义确实不是很好，它过多地关注了现代实现（OpenGL）的细节。我发现消除歧义的版本更容易理解：


模板是一种模板，用于在每次使用时绘制或绘制相同的字母，符号，形状或图案。这样的模板所产生的设计也称为模具。如果您在Google图片上输入模具，这是第一个结果：将图案的底片“绘制”到某物上。

模板缓冲区的工作方式完全相同。可以通过执行模板渲染过程，用选定的图案填充模板缓冲区，然后设置适当的模板功能，该功能将定义如何在后续图形上解释图案，然后渲染最终场景。根据比较功能，不会绘制掉落到模板遮罩拒绝区域中的像素。


实现模板缓冲时，有时确实与深度缓冲区。大多数图形硬件使用1字节（8位）的模版缓冲区，对于大多数应用程序而言已足够。深度缓冲区通常使用3个字节（24位）实现，对于大多数3D渲染来说，这通常就足够了。因此，将模板缓冲区的8位与深度缓冲区的其他24位打包在一起是合乎逻辑的，从而可以将每个深度+模板像素存储为32位整数。这就是Wikipedia的意思：


深度缓冲区和模板缓冲区通常在图形硬件的RAM中共享同一区域。



模板缓冲区曾经是国王的一个应用程序是用于阴影渲染，这种技术称为阴影体积，有时也称为模板阴影。这是对缓冲区的非常巧妙的使用，但是如今，大多数渲染字段似乎已转向基于深度的阴影贴图。

#2 楼

模板缓冲区是无符号整数缓冲区，如今通常是8位，您可以在模板测试后根据各种操作（例如此处的OpenGL Ops）的使用，根据需要填充每个像素的信息。

模板测试只是按像素进行的操作，其中将针对模板缓冲区的内容测试当前像素模板值。您设置模板测试通过的条件（例如，始终，更少等）。

您可以根据测试结果决定模具值的变化（在OpenGL中，使用我上面链接的操作）

模具缓冲区有很多用途，首先想到的是：


它可用作遮罩，有选择地渲染帧缓冲区的某些部分并丢弃其余部分。例如，这对于反射很有用，但还有很多其他用途。处理多分辨率渲染时，可以将其标记为需要以更高分辨率渲染的边缘。确实有很多掩盖用法。
例如一个非常简单的透支过滤器。您可以将模板测试设置为始终通过并始终增加该值。最终在模板缓冲区中获得的值表示您的透支。 [*]

过去，它还用于阴影技术，例如“阴影”体积。在图形程序员的军械库中。

[*]使用正确的SRV在后处理中回读的值！

编辑：
另外，值得一提的是，在Shader Model 5.1（即D3D11.3和D3D12）中，您可以通过SV_StencilRef访问模具参考值

#3 楼

模板缓冲区包含每个像素的整数数据，该数据用于添加对渲染像素的更多控制。

模板缓冲区的操作类似于深度缓冲区。因此，类似地，模板数据存储在深度缓冲区中。深度数据
确定哪个像素最接近摄影机时，模版数据可以用作更通用的每像素掩模，以保存或丢弃像素。若要创建蒙版，请使用模板功能将每次渲染像素时将
参考模板值（全局值）与
模板缓冲区中的值进行比较。 />
来源：什么是模板缓冲区？ | Microsoft开发人员网络

一般的想法是，您可以为每个像素设置一个值，然后设置操作（GREATER，SMALLER，EQUAL等），当评估结果为true时，该像素将被阴影显示。

一个应用程序是实时反射，当渲染反射纹理时，模版缓冲区用于为应用反射的位置创建蒙版。例如，仅将反射应用于玻璃材质阴影三角形。它也可以用于为整个帧缓冲区创建任意二维蒙版。