寻找可接受的质量阴影贴图技术

最近，在寻找解决传统阴影贴图的阴影痤疮问题的过程中，我实现了指数阴影贴图。它成功了（完全没有粉刺），但同时引入了其他不可接受的错误。
对于深度图模糊，我使用最小sigma = 1的高斯模糊。
测试阴影图：

float occluder = texture(shadowMap lightCoords.xy).r;
float c = 5000.0;
float receiver = lightCoords.z;
float shadow = exp(c*(occluder-receiver));
shadow = clamp(shadow, 0.0, 1.0);

c因子小c=100.0：

c因子高的发光二极管不可接受出现“肿胀”。
无法找到最佳c-即使在c=5000.0处也会出现光渗漏，并且已经存在高频阴影误差。不模糊深度图会有所帮助，但会出现锯齿。
我的问题是-如何改善这项技术（ESM）还是应该寻找另一种技术？我认为绝对有可能获得具有良好性能的高质量阴影-正如在《巫师3》或《辐射4》等现代游戏中所见。